SMIC (0981)

전망 요약

미국의 장비 규제 속에서도 중국 AI 칩 생산의 핵심 파운드리 역할을 지속할 전망

주요 포인트

• DUV 노광 장비를 활용한 멀티 패터닝 기술로 7나노급 공정 양산 능력을 입증
• 수율 저하와 비용 상승 문제가 있으나 국가적 차원의 보조금으로 이를 상쇄 중
• 중국 설계 기업들의 물량을 독점하며 공정 기술력을 점진적으로 고도화함